半导体制造中的涂层应用

提高耐蚀性、纯度和成品率

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SilcoTek高公差,精密CVD硅障涂层保护和改善整个半导体工艺系统的关键表面。涂层所有关键的流道表面将防止离子和颗粒污染,提高工艺收率。亚搏娱乐appSilcoTek®涂料等yabo sport.com,Dursox®Dursan®使关键的流道具有抗腐蚀性和惰性,确保工艺部件受到保护,不会受到破坏产量的金属离子污染。

惰性和耐腐蚀的屏蔽涂层的优点包括:

  • 提高耐腐蚀性能,减少工艺污染
  • 低排气量,改善真空泵下降。
  • 更少的金属离子污染和颗粒产生,更少的流体污染,提高产量
  • 提高耐用性和可靠性,延长元件寿命
  • 为改进法规遵从性而实现的一致性能

获得关于西科泰克涂层分析流道的所有好处的信息。

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半导体制造中的涂层应用。

半导体工艺流道的腐蚀会导致成品率的损失和金属离子的释放。SilcoTek耐腐蚀屏障涂层可以粘结到最复杂的内部流道表面,以显著提高不锈钢和金属合金表面的耐腐蚀性和惰性。应用程序包括:

  • 洁净室VOC检测
  • 产品及SEM测试
  • 过程气体交付
  • 腐蚀控制
  • 腐蚀和沉积
    • 腐蚀:消除屏障污染,增加使用寿命,消除老化
    • “肾上腺脑白质退化症”:提高纯度,减少残留和腐蚀
    • EPI:消除颗粒物的产生,提高不锈钢的耐腐蚀性
    • OLED:提高产量和效率
    • 臭氧:稳定的流动路径
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半导体的应用程序数据

需要一个耐用和耐腐蚀的惰性表面?Dursan具有卓越的性能和耐用性,使其成为具有挑战性环境中取样的理想涂层。

腐蚀Dursan ASTMG31

常见的半分子化学品,如HBr,会腐蚀工艺系统,yabo sport.com我们的抗腐蚀CVD涂层,可以提高3倍以上的系统耐腐蚀能力。

ASTM G31硅溶胶6N HBr 1

SilcoTek高公差,精密CVD硅涂层保护和改善整个半导体工艺系统的关键表面。涂层所有关键的流道表面将防止离子和颗粒污染,提高工艺收率。涂覆整个流动路径以保证最大的性能。

未涂覆的油管(左下“A”)保留甲醇,导致不可靠和缓慢的校准和测试。SilcoNert涂层管(右“B”)保留很少的甲醇,导致快速响应和准确的测试结果。这使得洁净室和其他室内或室外监测站能够提供一致和精确的结果。

甲醇吸附VOC分析

SilcoTek®惰性屏障涂层显著减少不锈钢表面的气体排放,提高泵送效率,几乎消除了表面老化的要求。涂层真空和关键的流道表面提高工艺效率和生产力。

室泵了

水分和其他污染物不粘在SilcoTek®涂层,改善SEM泵降,防止产品掺假。

水分吸附

资源

请观看我们的耐腐蚀演示视频,了解我们的涂层技术如何提高性能。亚搏娱乐app

保护您的设备免受腐蚀- Dursan从SilcoTek

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为了最大限度地利用你的流程和产品,涂覆所有流道部件和系统。这包括:

校准和规范气体输送系统

  • 天然气监管机构
  • 油管
  • 阀门

流程流的路径

  • 莲蓬头
  • 罐和坦克
  • 特高压电抗器包括法兰面
  • 天然气输送系统
  • 分离器和过滤器
  • 调节器和质量流量控制
  • 管,阀门和配件
  • 探头和样本流路径
  • 热交换器和反应器
  • 流控制

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